Прототип уникального оборудования для разработки микрочипов создали в Нижегородской области

Фото: с сайта strategy.government-nnov.ru

Передовое промышленное оборудование для микроэлектроники в настоящее время производят всего несколько государств, но в 2022 года все поставки любого специального технологического и контрольно-измерительного оборудования в Россию были остановлены. Для обеспечения технологической независимости РФ возникла необходимость в разработке такой техники.

Нижегородская область оказалась в авангарде производства оборудования для изготовления микроэлектронных компонентов и приступила к созданию собственного производства сверхточного современного литографа - первого в России. Об этом сообщается на сайте Стратегии развития Нижегородской области.

О разработке стало известно в ходе российского Форума "Микроэлектроника 2022". Нижегородская делегация презентовала демонстрационный образец установки литографии, созданной в ИПФ РАН в Нижнем Новгороде. Отмечается, что это пока "прототип прототипа".

Как пояснили разработчики, демо-версия не может решать реальные промышленные задачи, у нее другая важная функция – она дает учёным возможность удостовериться в реализуемости критически важных технологий и проверить другие ключевые гипотезы, необходимые в дальнейшей работе.

Производство любого чипа включает сотни технологических операций. Один из ключевых этапов производства – литография: на кремниевую основу (подложку) наносится микроскопический "рисунок", и этот процесс повторяется с одной и той же пластиной десятки раз, образуя сложный "пирог" - элементы чипа.

Как подчеркнули авторы проекта, в России оборудование для литографии раньше вообще не производилось. В настоящее время в нашей стране в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами более 65 нанометров. Такие изделия подходят для нужд космической и военной промышленности, элементов силовой электроники, но уже не годятся для современных компьютеров, смартфонов, серверов, искусственного интеллекта.

При этом лидеры отрасли микроэлектроники вплотную подошли к показателю в 7 нм – в 200 тысяч раз меньше миллиметра.

Оптическая система демонстратора, произведённая в ИФМ РАН превосходит все аналоги, существующие в мире на сегодняшний день. Благодаря ему получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.

Литограф планируется создать уже в ближайшие годы. Так, к 2024 году должна быть разработана альфа-машина - рабочее оборудование, рассчитанное на проведение полного цикла операций. К 2026 году альфу должна сменить бета-версия, в которой все системы будут улучшены и усложнены, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах. На финальном этапе - в 2028 году - литограф приобретёт более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи - и станет работать быстро и точно.

Рождение собственного производства сверхточного современного литографа в России станет событием планетарного масштаба, поскольку многие страны в покупке подобного оборудования. В сравнении с аналогами ведущих мировых производителей нижегородский литограф с уникальной оптической системой будет дешевле в производстве, компактнее, в 1,5-2 раза эффективнее.

Более того, после промышленного его внедрения можно будет говорить о полном технологическом суверенитете России.